材料類

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五氧化三鈦

純度：進口原材料（日本石原）
工藝：完善、重複的工藝，專有的製備方法（發明專利）
相純： 穩定的物相，保證鍍膜過程的穩定重複性
組分：非化學計量比組分減少放氣量，無噴濺
註解：鈦是一種多價態化合物，五氧化三鈦物相中會伴生鈦的其他雜相（如TiO2、Ti2O3、TiO等），因此保證產品物相單一性和產品的批次穩定性尤為重要。我們採用進口原料，重視產品製備過程中的每個細節，並保持每個工藝步驟的穩定性，重複性。

矽鋁混合物

原料：濕法球磨、噴霧造粒
工藝：完善、重複的生長工藝
優秀的表面處理
微孔結構：光斑易聚焦，杜絕光斑能量反射
註解：氧化矽和氧化鋁的混合物膜料是一種特別適合蒸鍍在塑膠鏡頭的鍍膜材料，它可以增強膜層的附著力，避免膜層的龜裂。獨特的製備工藝，解決了氧化矽和氧化鋁熔點差別大，氧化鋁蒸發不上去的難題。

五氧化二鉭

純度：進口原材料
工藝：完善、重複的生長工藝
組分：非化學計量比組分，無放氣量
外表圓潤，光滑， 密度大，減少粉塵，鍍膜無噴濺
註解：常見灰白色氧化鉭是一種不穩定化合物，易被氧化而逐步變白，導致鍍膜產品的不穩定。我們的氧化鉭為穩定的黑色圓球形顆粒，密度大，顆粒密實，材料內部含氣小；表面處理優秀，不沾附微塵；化學穩定性極好好，非化學計量比組分保證鍍膜過程中無放氣量。

鈦酸鑭(H4)

純度： 高純原料
相純：無雜相，鍍膜穩定性好
陶瓷顆粒：先進的陶瓷燒結工藝，高性價比
晶體顆粒：性能穩定優異，專用於高端光學鏡頭
註解：晶體鈦酸鑭是經過熔化結晶而製備，具有自主知識產權。相對於陶瓷顆粒，晶體顆粒密度大、無氣孔、純度高、組分更均勻，更適合高端光學鏡頭的應用。陶瓷鈦酸鑭性價比好，適合於中低端的光學鍍膜。

二氧化鈦

純度：進口原材料
工藝：特殊的原料處理和燒結工藝
相純：外表圓潤，光滑， 密度大，減少粉塵
組分：非化學計量比組分減少放氣量，無噴濺
註解：進口原料保證原料穩定和批次重複性；特殊的原料處理和燒結工藝，顆粒圓潤，光滑，密度大，材料內部含氣小；表面處理優秀，不沾附微塵；化學穩定性極好好，非化學計量比組分鍍膜過程中無噴濺。

二氧化矽

純度：高純原料
工藝：完善、重複的製備工藝（包括退火脫羥處理）
氣泡：嚴格控制氣泡含量
優秀的表面處理，表面無微塵殘留
註解：純度、氣泡含量、表面處理、應力處理是決定石英環（顆粒）品質的關鍵因素。製備過程中，我們重視每一個細節，在多年的經驗積累中，摸索出完善的生產工藝，並形成了有效的質量管控和檢驗體系。

五氧化二鈮

原料：球磨工藝，材料燒結性好
工藝：多次燒結，完善、重複的生長工藝
材料穩定性好，顆粒外表光滑， 減少粉塵，密度大
組分：非化學計量比組分減少放氣量
註解：氧化鈮的折射率介於氧化鈦和氧化鉭之間，是鍍多層濾光片的高射率材料。氧化鈮在燒結過程中容易成團，導熱性差，在製備過程中由於原料溫度不均勻導致材料的不穩定。我們原料經過處理提高燒結活性，多次燒結使得材料穩定可靠。

鋯鈦混合物

原料：球磨工藝，燒結性好
工藝：完善、重複的生長工
外表圓潤，光滑， 減少粉塵，密度大，鍍膜無噴濺
組分：非化學計量比組分減少放氣量，無噴濺
註解：進口原料保證原料穩定和批次重複性；特殊的原料處理和燒結工藝，表面圓潤，光滑，密度大，顆粒密實，材料內部含氣小；表面處理優秀，不沾附微塵；化學穩定性極好好

氟化鎂

純度：高純原材料
工藝：製備過程氟化處理
單晶化生長，物相穩定，自排雜純度高，無氣泡
優秀的表面處理，顆粒乾淨，不容易潮解
註解：氟化鎂在空氣中容易潮解，使得部分氟化物變成氧化鎂，常規的氟化鎂鍍膜材料常常混有氧化鎂，我們通過單晶化處理來改善上述問題。

石英環

純度：高純原材料
工藝：完善、重複的製備工藝（包括退火脫羥處理）
氣泡： 嚴格控制氣泡含量
優秀的表面處理，表面無微塵殘留
註解：純度、氣泡含量、表面處理、應力處理是決定石英環（顆粒）品質的關鍵因素。製備過程中，我們重視每一個細節，在多年的經驗積累中，摸索出完善的生產工藝，並形成了有效的質量管控和檢驗體系。

YbF3(YF3)

純度：高純原材料
工藝：原材料球磨處理(控製粒徑)，加熱熔化、破碎
難點：材料的純度、密度，含氣量三方面控制
市場需求小，原廠投入小，質量有波動
註解：購買原料，我們自己做氟化處理，把原材料的質量控制下放到自己的公司，原材料球磨處理(控製材料粒徑),氟化氣體一起密封到坩堝中,加熱熔化、破碎，可以掌控原料的產品質量；材料經過熔化後，密度更高，組分更均勻，含氣量更小。

膜厚監控片

材質：B270,BK7
尺寸：Φ140×80×1.35，Φ142×80×1.8等
材料：質量：無印子，無划痕，無點，平面±0.02
保管：真空塑料盒以及袋子，防止空氣腐蝕
註解：產品主要用於新科隆、光池、昭和等光學鍍膜機器，分別有單耳、雙耳光控片，採用真空單片的保管方式，從而控制產品產生印子和划痕，降低使用成本。

濺射靶材

主代的濺射靶材：
● 單質類：Si、Cr、Ti、Nb、Ag、Mo、Al等；
● 合金類：Mo合金、Al合金、Au合金等；
● 化合物：ITO、SiO2、NbOx、TiOx等。
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